한국원자력연구원, 고품질 실리콘 반도체 생산기술 ISO 9001 인증 획득 한국원자력연구원(원장 양명승)이 연구용 원자로 하나로(HANARO)에서 생성된 중성자를 이용해서 고품질 실리콘 반도체를 생산하는 중성자핵변환도핑(NTD : Neutron Transmutation Doping) 기술에 대해 품질경영에 관한 국제 표준인 ISO(International Organization for Standardization) 9001:2000 인증을 획득했다. 중성자핵변환도핑(NTD)은 부도체인 고순도의 실리콘(Si) 단결정에 중성자를 쪼여 실리콘 원자핵 중 극미량을 인(P)으로 핵변환함으로써 n-형 반도체로 변환시키는 기술이다. 이렇게 만들어진 반도체는 실리콘에 인을 직접 확산시키는 일반적인 화학공정보다 인의 분포를 매우 균일하게 할 수 있는 장점이 있어 고속전철, 자기부상열차, 전기자동차, 풍력발전소 설비 등의 인버터에 사용되는 대전력용 반도체 소자 제조에 이용되고 있다. 이번 ISO 9001 인증 획득으로 한국원자력연구원은 NTD의 기술 수준 및 품질 관리, 운영 능력에서 국제적으로 신뢰도를 공인받게 됐다.