´ëÇѹα¹ ÃÖ´ë ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷Àü½Ãȸ
Á¦30ȸ ¼¼¹ÌÄÜÄÚ¸®¾Æ ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ÀÇ ¿¡ÄڽýºÅÛ ÃѸÁ¶ó! »õ·Î¿î ºñÁî´Ï½º ±âȸ¸¦ ¸ð»öÇÒ ¼ö ÀÖ´Â °¡Àå ÀÌ»óÀûÀÎ ¹ÝµµÃ¼»ê¾÷ Ç÷§Æû
1987³â 1ȸ·Î ½ÃÀÛÇÑ ¼¼¹ÌÄÜÄÚ¸®¾Æ°¡ ¿ÃÇØ 30ÁÖ³âÀ» ¸ÂÀÌÇß´Ù. 20°³±¹ 467°³ Àü½Ã¾÷ü¿Í 1893°³ ºÎ½º ±Ô¸ð·Î °³ÃÖµÈ À̹ø ‘¼¼¹ÌÄÜÄÚ¸®¾Æ(SEMICON Korea) 2017’Àº Àü ¼¼°è ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷À» ¼±µµÇÏ´Â 4¸¸¿© ¸í ÀÌ»óÀÇ ¹ÝµµÃ¼ Àü¹® ¿£Áö´Ï¾î¿Í ±¹³»¿Ü ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ ¸®´õµéÀÌ ÇÑÀÚ¸®¿¡ ¸ðÀÎ ±Û·Î¹ú ÃàÁ¦´ä°Ô ¿ÃÇØ ¿ª´ë ÃÖ´ë±Ô¸ð¸¦ ÀÚ¶ûÇÏ¸ç ¼ºÈ²¸®¿¡ ¸·À» ³»·È´Ù. SEMI°¡ ÁÖÃÖÇÏ´Â SEMICON Àü½Ãȸ´Â Çѱ¹, ¹Ì±¹, Áß±¹, ÀϺ», ´ë¸¸, ·¯½Ã¾Æ µî Àü ¼¼°è 8°÷¿¡¼ ¸Å³â ¿¸®°í ÀÖÀ¸¸ç, Àü½Ãȸ°¡ °³ÃֵǴ 8°³ ±¹Àº ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ÀÌ È°¹ßÇÑ °÷À¸·Î, SEMICON Àü½Ãȸ´Â »ê¾÷ ¹ßÀüÀÇ Ã˸ÅÁ¦ ¿ªÇÒ»Ó ¾Æ´Ï¶ó, ºñÁî´Ï½ºÀÇ ½ÇÁúÀûÀÎ ÀåÀ¸·Î È®°íÈ÷ ÀÚ¸®¸Å±èÇÏ°í ÀÖ´Ù. ±Û•»çÁø ±è´ë±Ù ±âÀÚ
01 ‘¼¼¹ÌÄÜÄÚ¸®¾Æ 2017’°³¸·½Ä¿¡¼ SEMI ÀÌ»çȸ ¸â¹ö¿Í Çѱ¹¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ÀÇ ÁÖ¿ä ÀλçµéÀÌ ¸®º» Ä¿ÆýÄÀ» ÇÏ°í ÀÖ´Â ¸ð½À.02/03 È«¼ºÁÖ SKÇÏÀ̴нº ºÎ»çÀåÀÌ ¹ÝµµÃ¼ ±â¼úÀÇ À§´ëÇÑ Çõ½Å, ‘Great Innovations of the Semiconductor Technology’¶õ ÁÖÁ¦·Î ±âÁ¶°¿¬À» ÇÏ°í ÀÖ´Â ¸ð½À. 04 ½Ã¸®ÄÆ® Ÿī ÈÞ·¿ÆÑÄ¿µå(HP) ºÎ»çÀåÀÌ Â÷¼¼´ë ȯ°æ ÄÄÇ»ÆÃ, ‘Ambient Computing: The Next Frontier’¶õ ÁÖÁ¦·Î ±âÁ¶°¿¬À» ÇÏ°í ÀÖ´Â ¸ð½À. 05 ·è ¹Ýµ§È£ºê IMEC »çÀåÀÌ IC Çõ½Å, ‘IC Innovation: The Heartbeat of Yesterday, Today, Tomorrow’¶õ ÁÖÁ¦·Î ±âÁ¶°¿¬À» ÇÏ°í ÀÖ´Â ¸ð½À. 06 À϶õ ½ºÇʸµ°Å ¸¶ÀÌÅ©·Î¼ÒÇÁÆ® ¼ö¼®ºÎ»çÀåÀÌ È¦·Î·»Áî¿Í È¥ÇÕÇö½Ç, ‘Microsoft HoloLens and Mixed Reality’¶õ ÁÖÁ¦·Î ±âÁ¶°¿¬À» ÇÏ°í ÀÖ´Â ¸ð½À. °³¸·Çà»ç&±âÁ¶¿¬¼³Çѱ¹SEMI Á¶Çö´ë ´ëÇ¥ÀÇ °³È¸»ç¿Í SEMI±¹Á¦ÀÌ»çȸ ÀÇÀåÀÎ ÀÌ¿ëÇÑ È¸ÀåÀÇ Ãà»ç·Î ÁøÇàµÈ ¼¼¹ÌÄÜÄÚ¸®¾Æ 30Áֳ⠱â³ä °³¸·½ÄÀÌ ¿·È´Ù. À̳¯ Çà»ç¿¡¼´Â Çѱ¹¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ÀÇ ÁÖ¿äÀλçµé°ú SEMI ÀÌ»çȸ ¸â¹öµéÀÌ Âü¿©ÇÏ¿© ¸®º» Ä¿ÆýÄÀ» °¡Á³À¸¸ç, ±âÁ¶¿¬¼³¿¡´Â <À̳뺣À̼Ç- ¹Ì·¡¸¦ ¼³°èÇÏ´Ù>¶ó´Â ÁÖÁ¦·Î SKÇÏÀ̴нº, HP, imec, ¸¶ÀÌÅ©·Î¼ÒÇÁÆ®¿¡¼ °¢°¢ Àú¸í ¿¬»çµéÀÌ ³ª¿Í ¹ÝµµÃ¼ ¹Ì·¡¿¡ ´ëÇÑ ±âÁ¶°¿¬À» ÁøÇàÇß´Ù. ÀÌ ÀÚ¸®¿¡¼´Â ¹ÝµµÃ¼ ±â¼ú°ú ÁýÀûȸ·Î(IC)ÀÇ Çõ½Å, ȯ°æ ÄÄÇ»Æà ºÐ¾ß Àü¸Á, ¸¶ÀÌÅ©·Î¼ÒÇÁÆ® Ȧ·Î·»Áî¿Í È¥ÇÕÇö½Ç µî ÃֽŠÀ̽´¿¡ ´ëÇÑ ³íÀÇ°¡ À̾îÁ³´Ù.01/04 Á¦30ȸ ¼¼¹ÌÄÜÄÚ¸®¾Æ Àü½Ãȸ dz°æ. 05 Å°½½¸® S540 °íÀü·Â ¹ÝµµÃ¼ Å×½ºÆ® ½Ã½ºÅÛ. ÃÖ´ë 48ÇÉ, ÃÖ´ë 3kVÀÇ ÆĶó¹ÌÅÍ Å×½ºÆ®¸¦ Áö¿øÇϸç, °íÀü¾Ð Ciss/Coss/CrssÀÇ ÆĶó¹ÌÅÍ ¿ÏÀü ÀÚµ¿ ÃøÁ¤ÀÌ °¡´ÉÇÏ´Ù. ½ºÅ©¸³Æ® ±â¼úÀ» »ç¿ëÇÑ °í¼Ó Å×½ºÆ®¸¦ ½ÇÇöÇϸç, Unit ±³È¯À» ÅëÇØ À¯Áöº¸¼ö°¡ °£´ÜÇÏ´Ù(Çѱ¹ÅØÆ®·Î´Ð½º). 06 ¹ÝµµÃ¼ Å×½ºÆ® ½Ã½ºÅÛ(STS) ½Ã¸®Áî´Â ¹Ù·Î ¾ç»ê ȯ°æ¿¡¼ »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Â Å×½ºÆ® ½Ã½ºÅÛÀ¸·Î, ¹ÝµµÃ¼ »ý»ê Å×½ºÆ® ȯ°æ¿¡ ÀûÇÕÇÑ Æû ÆÑÅÍ¿¡ NI ±â¼úÀ» Á¢¸ñÇÑ Á¦Ç°ÀÌ´Ù. STSÀÇ ÀÏüÇü Å×½ºÆ® Çìµå¿¡´Â NI PXI Ç÷§Æû, TestStand Å×½ºÆ® °ü¸® ¼ÒÇÁÆ®¿þ¾î, LabVIEW ±×·¡ÇÈ ÇÁ·Î±×·¡¹ÖÀÌ °áÇյǾî ÀÖ´Ù. ‘Çìµå¿¡ ³»ÀåµÈ Å×½ºÅÍ’ ¼³°è¿¡´Â ½Ã½ºÅÛ ÄÁÆ®·Ñ·¯, DC, AC, RF °èÃø, DUT ÀÎÅÍÆäÀ̽Ì, Àåºñ Çڵ鷯/ÇÁ·Î¹ö µµÅ· ±â°è ÀåÄ¡ µî »ý»ê Å×½ºÅÍÀÇ ÁÖ¿ä ±¸¼º¿ä¼Ò°¡ ¸ðµÎ Æ÷ÇԵǾî ÀÖ´Ù. ÀÌ·¸°Ô ÄÄÆÑÆ®ÇÑ ¼³°è ´öºÐ¿¡ Àü·Â¼Ò¸ð·® ¹× À¯Áöº¸¼ö ³ë·ÂÀÌ ÁÙ¾îµé°í, Å×½ºÆ® ºñ¿ëÀ» Àý¾àÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ¶ÇÇÑ, 1500°³ ÀÌ»óÀÇ ¸ðµâÇü °èÃø±â¸¦ ±â¹ÝÀ¸·Î À¯¿¬ÇÑ Å×½ºÆ® ¼Ö·ç¼Ç ±¸ÃàÀÌ °¡´ÉÇÏ´Ù(NI, Çѱ¹³»¼î³¯ÀνºÆ®·ç¸ÕÆ®). 07 ¹«¼± Å×½ºÆ® ½Ã½ºÅÛ(WTS). ºü¸¥ Å×½ºÆ® ½Ã°£ ¹× ¾ç»ê¿¡¼ÀÇ ¹«¼± Å×½ºÆ® ºñ¿ë Àý°¨À¸·Î ´õ¿í ºü¸£°í °æÁ¦ÀûÀ¸·Î ½Ã½ºÅÛÀ» ¹èÆ÷ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ¾÷°è ÃÖ°íÀÇ ÃøÁ¤ ¼Óµµ¿Í À¯¿¬¼ºÀ¸·Î ¿©·¯ Ç¥ÁØ, ¿©·¯ DUT, º´·Ä Å×½ºÆ®¸¦ Áö¿øÇÏ´Â WTS´Â ¹Ù·Î ½ÇÇà °¡´ÉÇÑ ÂüÁ¶ Å×½ºÆ® ½ÃÄö½º, ÅëÇÕ DUT ÄÁÆ®·Ñ, ¿ø°Ý ÀÚµ¿È ÄÁÆ®·ÑÀ» »ç¿ëÇÏ¿© »ý»ê ¶óÀο¡ ½±°Ô ÅëÇÕÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù(NI, Çѱ¹³»¼î³¯ÀνºÆ®·ç¸ÕÆ®). 08 »ê¾÷¿ë ·Îº¿ YuMi. ÃÖÃÊÀÇ Çù¾÷ ¾çÆÈ ·Îº¿À¸·Î ¼ÒÇü ºÎÇ° Á¶¸³°øÁ¤¿¡¼ Àΰ£°ú Çù¾÷ÀÌ °¡´ÉÇϸç, Çù¼ÒÇÑ °ø°£¿¡¼µµ ³ôÀº ¾ÈÀü¼º°ú Á¤È®µµ¸¦ Á¦°øÇÔÀ¸·Î½á °í°´»ç¿¡ »õ·Î¿î ¼Ö·ç¼ÇÀ» Á¦½ÃÇÑ´Ù. YuMiÀÇ ¾çÆÈÀº °¢°¢ 7°³ÀÇ ÃàÀ¸·Î ±¸¼ºµÇ¸ç ¸¶±×³×½· ±Ý¼ÓÀ¸·Î ¸¸µé¾îÁ³´Ù. YuMi´Â ƯÈ÷ Àü±âÀüÀÚ Á¦Á¶ »ê¾÷À» À§ÇØ µðÀÚÀÎµÈ ·Îº¿ÀÌÁö¸¸, ÀÛÀº ºÎÇ°À» »ç¿ëÇÏ´Â Á¦Á¶»ê¾÷, ¿¹¸¦ µé¾î ½Ã°è³ª Àå³°¨ ¶Ç´Â ÀÚµ¿Â÷ ºÎÇ°À» Á¦Á¶ÇÒ ¶§¿¡µµ ¿ëÀÌÇÏ°Ô ¾²ÀÏ ¼ö ÀÖ´Ù(ABB). 09 NPort 5600 Series. Çϵå¿þ¾î ÅõÀÚºñ¿ë °¨¼Ò»Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó, ½Ã¸®¾ó ÀåÄ¡ °ü¸®¸¦ Áß¾Ó ÁýÁßÈÇÏ°í ³×Æ®¿öÅ©¸¦ ÅëÇØ È£½ºÆ®¸¦ ºÐ»êÇÏ¿© ÇâÈÄ ³×Æ®¿öÅ© È®Àå¿¡ ¿ëÀÌÇÏ´Ù. ÃÖ´ë 8°³ ¶Ç´Â 16°³ÀÇ ½Ã¸®¾ó Æ÷Æ®¸¦ Áö¿øÇϸç, ½¬¿î ¼³Ä¡¸¦ À§ÇØ 19ÀÎÄ¡ ·¢ ¸¶¿îÆ®¿ëÀ¸·Î ¼³°èµÇ¾ú´Ù. ¸ðµç ȯ°æ¿¡¼ ¿Ïº®ÇÑ È£È¯À» À§ÇØ ÇÏ´Ü Æгο¡ DIP ½ºÀ§Ä¡·Î Á¾´Ü ÀúÇ×À» ¼³Á¤ÇÏ°í high/low ÀúÇ×°ªÀ» ²ø¾î¿Ã ¼ö ÀÖ´Ù(MOXA). 10 ÇÇ¿¡Á¶ ±â¼úÀ» Àû¿ëÇÑ °íÁ¤¹Ð ¼ÒÇü ºñ·Ê Á¦¾î ¹ëºê. ¿¡³ÊÁö ¼¼À̺ù, ³ôÀº Á¤¹Ðµµ ¹× ºü¸¥ ÀÀ´ä¼ºÀ» ±¸ÇöÇϸç, ±âÁ¸ÀÇ ¼Ö·¹³ëÀÌµå ¹ëºê¸¦ ´ëüÇϴ ȹ±âÀûÀÎ ´ë¾ÈÀ¸·Î ÁÖ¸ñ¹Þ°í ÀÖ´Ù. ÀÛµ¿ ½Ã ¼ÒÀ½ÀÌ °ÅÀÇ ¾øÀ¸¸ç, Ç×»ó ÀԷ½ÅÈ£¿¡ ºñ·ÊÀûÀ¸·Î ÀÛµ¿ÇÏ¿© ¹°¸®Àû ¸¶ÂûÀÌ Àû¾î ¸¶¸ð¿¡ ´ëÇÑ ³»±¸¼ºÀÌ ¶Ù¾î³ª´Ù(Çѱ¹ÈѽºÅä). 11 LMS(¸®´Ï¾î ¸ð¼Ç ½Ã½ºÅÛ). OLED, Semiconductor, Solar cell µî °íÁøµ¿, °í¿ÂÀÇ È¯°æ ¹× ÈÇа¡½º ȯ°æ°ú °°Àº ¿¾ÇÇÑ È¯°æ¿¡¼ Á¤¹Ð À̼ÛÇÏ´Â »õ·Î¿î °³³äÀÇ ¼Ö·ç¼Ç. ´Ù¼öÀÇ Ä³¸®¾î¸¦ µ¶¸³ÀûÀ¸·Î ±¸µ¿ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â LMS ¼Ö·ç¼ÇÀº Á¤¹ÐÇÏ°Ô µ¿À۵Ǹç, º¹ÀâÇÑ ¸ð¼ÇÀÌ ¿ä±¸µÇ´Â ¾îÇø®ÄÉÀ̼ǿ¡ ÃÖÀûȵǾî ÀÖ´Ù. LMS ¼Ö·ç¼ÇÀº °íÇÏÁß Ä³¸®¾î ±¸µ¿»Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó, °í¼Ó ¸ð¼Çµµ Áö¿ø °¡´ÉÇÏ´Ù(º¸½¬ ·º½º·Î½º).01 Çʵå¹ö½º ½Ã½ºÅÛ ´ëÀÀ Áø°ø À¯´ÏÆ®. ºÐ»ê ¼³Ä¡ÇÏ¿© ÀåÄ¡ ÀüüÀÇ ¹è¼±°ø°£ Àý¾àÈ ¹× ¸ÞÀÎÅͳͽº °ø¼ö »è°¨ÀÌ °¡´ÉÇÏ°í ¿À¹è¼±À» ¹æÁöÇÑ´Ù(Çѱ¹SMC°ø¾Ð). 02 ÀÌ¿À³ªÀÌÀú ºÎÂø Á¦Áø ¹Ú½º(Á¤Àü±â ´ëÃ¥±â±â) ZVB Series. Á¦Àü·Á¦Áø·ÁýÁøÀÇ 3°¡Áö ±â´ÉÀ» 1´ë·Î Áý¾àÇÑ All-In-One Á¦Ç°(Çѱ¹SMC°ø¾Ð). 03 Megpie. ¸Þ°¡¼Ò´ÐÀ» ÀÌ¿ëÇÑ Single Wafer Clean-ing. °øÁ¤ Áß¿¡ ParticleÀ» »ý¼º½ÃÅ°Áö ¾Ê´Â »çÆÄÀ̾î ÀçÁúÀÇ Resonator. Pie ¸ð¾çÀ¸·Î ±ÕÀÏÇÑ ¸Þ°¡¼Ò´ÐÀ» È°¿ëÇØ ÆÄƼŬ °³¼± È¿°ú°¡ ³ô´Ù. ¸Þ±×ÆÄÀÌ¿¡¼ ³ª¿À´Â ¸Þ°¡¼Ò´ÐÀº Process Fluid ¾È¿¡¼ ijºñÅ×À̼ÇÀ» ¹ß»ý½ÃÅ°°í, ±× ijºñÅ×À̼ÇÀ» ÅͶ߷Á¼ ¹ß»ýÇÏ´Â shock wave·Î ParticleÀ» Á¦°ÅÇÏ´Â ¿ø¸®´Ù. Á¦°ÅµÈ ParticleÀº ¿þÀÌÆÛÀÇ ¿ø½É·Â¿¡ ÀÇÇØ lift offµÈ´Ù(¾ËƼ¾¾ÄÉÀÌ). 04 Çü»ó ÃøÁ¤ ·¹ÀÌÀú ¸¶ÀÌÅ©·Î½ºÄÚÇÁ VK Series. ³ôÀº ºÐÇØ´É·°¢µµ Ư¼ºÀ¸·Î °£¼·°è³ª ±âÁ¸ÀÇ ·¹ÀÌÀú Çö¹Ì°æÀ¸·Î´Â ºÒ°¡´ÉÇß´ø °ÍÀ» ÃøÁ¤ÇÒ ¼ö ÀÖÀ¸¸ç(ºÐÇØ´É 0.5nm+16bit ¼¾½Ì+AI-SCAN), ´ë±â»óÅ¿¡¼ 50~28000¹è±îÁö ÃÊ°í¹èÀ² Ä÷¯ °üÂûÀÌ °¡´ÉÇÏ´Ù(Å°¿£½ºÄÚ¸®¾Æ).
±¸¸Å»ó´ãȸ Àü½Ãȸ 3ÀÏ µ¿¾È °³ÃÖµÈ ±¸¸Å»ó´ãȸ´Â ±¹³» ±â¾÷µéÀÇ ÇØ¿Ü ºñÁî´Ï½º âÃâ ¹× ½Å±Ô»ç¾÷ ±âȸ¸¦ Á¦°øÇϱâ À§ÇØ ¸¶·ÃµÈ °ÍÀ¸·Î, Àü½Ãȸ¿¡ Âü°¡ÇÏ´Â ±â¾÷°ú ÇØ¿ÜĨ¸ÞÀÌÄ¿ ¹× Àåºñ»ç¿ÍÀÇ 1:1 ºñÁî´Ï½º ¸ÅĪ ÇÁ·Î±×·¥ÀÌ´Ù. ¸Å³â º» »ó´ãȸ¸¦ ÅëÇØ ½ÇÁúÀûÀÎ ºñÁî´Ï½º°¡ ÀÌ·ç¾îÁ³À¸¸ç, ¿ÃÇØ´Â ¡ã»ï¼ºÀüÀÚ ¡ãSKÇÏÀ̴нº ¡ãÀÎÅÚ ¡ã¸¶ÀÌÅ©·Ð ¡ã¼Ò´Ï ¡ãµµ½Ã¹Ù ¡ã·¥¸®¼Ä¡ÀÇ ÃÑ 7°³»ç°¡ Âü¿©Çß´Ù. * ÇؿܼÒÀÚ¾÷ü ±¸¸Å»ó´ãȸ(SSP): ÁÖ¿ä ÇØ¿Ü Ä¨¸ÞÀÌÄ¿¿Í ±¹³» ÀåºñÀç·á ¹× ºÎÇ°Á¦Á¶ ¾÷ü °£ ¹ÌÆà * OEM ÇØ¿ÜÀåºñ¾÷ü ±¸¸Å»ó´ãȸ(OEM SSM): ±Û·Î¹ú Àåºñ¾÷ü¿Í ºÎÇ° ¹× °¡°ø¾÷ü °£ ¹ÌÆà ¼¼¹Ì³ª ¼¼¹ÌÄÜÄÚ¸®¾Æ¿¡¼ ÁøÇàµÈ ´Ù¾çÇÑ ½ÉÆ÷Áö¾ö, ¼¼¹Ì³ª, Æ÷·³ ¹× ÄÁÆÛ·±½º¿¡¼´Â Àü ¼¼°è Àü¹®°¡µéÀÌ ÃÊûµÇ¾î ¹ÝµµÃ¼ÀÇ ÇöÀç¿Í ¹Ì·¡¸¦ Á¶¸ÁÇØ º¸´Â ½Ã°£À» °¡Áö¸ç 3ÀÏ µ¿¾È 100¸í ÀÌ»óÀÇ ¿¬»ç ¹ßÇ¥°¡ ÀÌ·ç¾îÁ³´Ù. ±× ÁÖ¿ä ÇÁ·Î±×·¥À¸·Î¼ ¸ÕÀú ¼¼¹ÌÄÜÄÚ¸®¾ÆÀÇ ´ëÇ¥ ÇÁ·Î±×·¥À̶ó ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â SEMI ±â¼ú½ÉÆ÷Áö¾ö(STS)¿¡¼´Â ¹ÝµµÃ¼ Àü °øÁ¤À» ¡ã³ë±¤ ¡ã´ÙÀÏ·ºÆ®·Î´Ð½º ¡ã µð¹ÙÀ̽º ¡ã½Ä°¢ ¡ã¼¼Á¤ ¹× CMP ¡ãÆÐŰ¡ÀÇ 6°³·Î ³ª´©¾î ¸ðµç °øÁ¤ ±â¼ú¿¡ ´ëÇØ ´Ù·ð´Ù. 8, 9ÀÏ ÀÌƲ µ¿¾È ¿¸®´Â º» ½ÉÆ÷Áö¾ö¿¡¼´Â ȵΰ¡ µÇ°í ÀÖ´Â 3D³½µå, 3DÅ©·Î½ºÆ÷ÀÎÆ® ¸Þ¸ð¸®, FOWLP(ÆҾƿô ¿þÀÌÆÛ·¹º§ ÆÐÅ°Áö) µî ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ÀÇ ÃֽŠ±â¼ú¿¡ °üÇÑ ³í¹®µéÀÌ ¼Ò°³µÇ¾ú´Ù. ÃֽŠ±â¼úµ¿Çâ»Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó, Â÷¼¼´ë ¹ÝµµÃ¼ ±â¼úÀÇ ¹ßÀü¹æÇâÀ» º¼ ¼ö ÀÖ´Â À¯ÀÍÇÑ ÇÁ·Î±×·¥À¸·Î¼ »ï¼ºÀüÀÚ, SKÇÏÀ̴нº, ASML, ±Û·Î¹úÆÄ¿îµå¸®, TEL, µµ½Ã¹Ù, ½Ã³ô½Ã½º, ÅäÆÇÇÁ¸°ÆÃ, JSR¸¶ÀÌÅ©·Î, ¾ÆÀ̸߿¡¼ Âü¿©ÇÏ¿´´Ù. ¸¶Äϼ¼¹Ì³ª¿¡¼´Â ¹ÝµµÃ¼ Àü¹® ½ÃÀåÁ¶»ç ±â°üÀÎ Å×Å©¼Ä¡, VLSI, SEMI¿¡¼ Á¦°øÇÏ´Â ÃÖ½ÅÀÚ·áµé°ú ´õºÒ¾î Áß±¹½ÃÀå, ¾îµå¹ê½ºµå ÆÐŰ¡, ¹ÝµµÃ¼ Àåºñ ¹× Àç·á ½ÃÀåÀÇ Æ®·»µå¸¦ ÇÑ´«¿¡ º¼ ¼ö ÀÖ¾ú´Ù. ¿ÃÇØ Ã³À½À¸·Î ¼±º¸ÀÌ´Â ½º¸¶Æ® Á¦Á¶ Æ÷·³(Smart Manufacturing Forum)¿¡¼´Â ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷¿¡ ÃÊÁ¡À» ¸ÂÃè´Ù. ÀÎÅÚ, Áö¸à½º, ¾îÇöóÀÌµå ¸ÓƼ¸®¾óÁî, SKÇÏÀ̴нº, BISTel µî °øÀåÀÚµ¿È¿¡¼ ±¸ÇöÇÒ ÁÖ¿ä ¼ÇöóÀÌ Ã¼Àκ°·Î µ¥ÀÌÅÍ Áß½ÉÀÇ ÀÚµ¿È ¼Ö·ç¼Ç Àû¿ë»ç·Ê ¹× ºñÀü ¹ßÇ¥¸¦ ÅëÇØ »óÈ£ °£ Çù¾÷ ¹æ¾ÈÀ» ¸ð»öÇÏ°í, ±¹Á¦ µ¿ÇâÀ» °øÀ¯ÇÏ´Â ÀÚ¸®¸¦ °¡Á³´Ù. ¡ã SEMI ±â¼ú½ÉÆ÷Áö¾ö(STS) - Advanced Lithography °ü·Ã ÁÖÁ¦¹ßÇ¥ ¸ð½À.
±Û·Î¹ú ³×Æ®¿öÅ·
º» Àü½Ã¿¡¼´Â 400¸í ÀÌ»óÀÇ ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ÀÇ VIP°¡ Âü¼®ÇÑ ‘ÇÁ·¹Áö´øÆ® ¸®¼Á¼Ç’À» ÅëÇØ ±Û·Î¹ú ¸®´õ °£ÀÇ ³×Æ®¿öÅ· ÀÚ¸®µµ ¸¶·ÃµÇ¾ú´Ù. ¶Ç ±¹Á¦Ç¥ÁØÀÇ Á¦Á¤ ¹× °³Á¤°ú °ü·ÃÇØ Àü½Ã±â°£ µ¿¾È ¹ÝµµÃ¼ Àü¹®°¡µéÀÇ ÀÚ¹ßÀû Âü¿©·Î ÀÌ·ç¾îÁö´Â HB-LED, I&C, FPD Metrology ȸÀÇ µî ±¹³» ¹ÝµµÃ¼, LED, FPDºÐ¾ßÀÇ ±Û·Î¹ú °æÀï·ÂÀ» °È½ÃÅ°´Â ‘SEMI ±¹Á¦Ç¥ÁØȸÀÇ’µµ °³ÃֵǾú´Ù.
* ¹ÝµµÃ¼´Â Çѱ¹ÀÇ ´ëÇ¥Àû ¼öÃâ Ç°¸ñÀ¸·Î ¿ì¸®³ª¶ó °æÁ¦ÀÇ µçµçÇÑ ¹öÆÀ¸ñÀÏ»Ó ¾Æ´Ï¶ó, Àü ¼¼°è ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷¿¡¼µµ ´ëÇѹα¹ÀÇ À§»óÀº ¼±Áø °±¹À¸·Î ÀÚ¸®¸Å±èÇÏ°í ÀÖ´Ù. ºü¸£°Ô º¯ÈÇÏ°í ÀÖ´Â ½ÃÀå ȯ°æ¿¡¼ ±Û·Î¹ú ¹ÝµµÃ¼ ¾÷°èÀÇ ÇöÀç¿Í ¹Ì·¡¸¦ Á¡°ËÇÒ ¼ö ÀÖ´Â º¸´Ù ½ÇÁúÀûÀÌ°í Àü·«ÀûÀÎ ºñÁî´Ï½º ±âȸ¸¦ Á¦°øÇÏ°íÀÚ ¼¼¹ÌÄÜÄÚ¸®¾Æ´Â ¡ã¹ÝµµÃ¼ ±â¼ú ½ÉÆ÷Áö¾ö ¡ã¸¶Äϼ¼¹Ì³ª ¡ãºñÁî´Ï½º ¸ÅĪÇÁ·Î±×·¥ µî ¾÷°è ÃÖ½ÅÁ¤º¸¸¦ ±³È¯ÇÏ´Â ÀåÀ» ¸¶·ÃÇÏ´Â µ¥ ÁÖ·ÂÇÏ°í ÀÖ´Ù.
<Energy News>
|
|