차세대 포토마스크 검사 시스템 STARlight-22006년 4월 5일 KLA-Tencor가 차세대 포토마스크 검사 시스템(제품명: STARlight-2™)을 출시했다. 이 제품은 65nm 노드 이하에서 주종을 이루고 있는 최고 해상도 향상 기술(XRET, extreme resolution enhancement technique)이 적용된 포토마스크를 포함하여 모든 유형의 포토마스크에 적용 가능한 업계 최고의 가격 대비 성능을 가진 오염 검사 솔루션이다. 1993년에 소개된 이래 전세계적으로 웨이퍼 팹에 약 160여대, 마스크 샵에 175여 대가 사용되고 있는 이전 세대 업계 표준인 STARlight와 비교해 볼 때 STARlight-2™는 혁신적인 이미지 처리 기술을 적용함으로써 이와 같은 특징을 추가로 구현할 수 있었다. 이 시스템은 시간이 경과함에 따라 소자의 수율에 상당한 영향을 주고 소자의 재현성에 심각한 문제를 발생시킬 수 있는 진행성 결함을 감지하기 위해 특별히 설계되었다. STARlight-2를 사용함으로써 웨이퍼 팹은 효율이 높고 가격대비 성능이 우수한 포토마스크 품질 재검증 전략을 갖출 수 있게 되었으며, 이를 통해 최첨단 리소그래피의 공정 윈도우 크기를 최대화함으로써 생산 수율을 극대화할 수 있다. STARlight-2를 이용하면 칩 수율 저하 또는 불필요한 재작업 및 제작기간 지연을 초래할 수 있는 다른 품질 재검증 방법에 의존할 필요가 없다. STARlight-2의 보다 조밀한 픽셀(125nm 및 90nm)은 아주 작은 패턴을 가진 소자 위에 있는 오염물질의 공정 윈도우에 영향을 주거나, 웨이퍼에 인쇄되기 전에 오염물질을 감지하는 데 필요한 해상도와 감도를 제공한다.(주)KLA-Tencor http://www.kla-tencor.com

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